Q -よくあるご質問

CVD処理とは？

A -プレス表面処理一貫加工.comからのご回答

CVDとは（Chemical Vapor Deposition）と略され、化学気相成長、化学気相蒸着とも呼ばれる化学蒸着によるドライプロセス表面処理技術となります。また、蒸着による処理法はCVD法（化学蒸着法）の他にPVD法（物理蒸着法）と大別されており、両者での大きな違いは処理方法と処理温度になります。

CVD法：薄膜を構成する原子を含んだ化合物ガスを原料とし、化学反応を利用して薄膜形成。
PVD法：被処理物に蒸着する材料を直接気化させて薄膜形成。

CVD法、PVD法ともに更に細かく分類されますが、ご質問頂きましたCVD法の一例として熱CVD法について簡単では御座いますが説明させて頂きます。
素材となる反応物質を気化させ、これを反応ガスと混合して反応室内に充填します。反応室内ではヒーターによって熱された処理物（おおよそ1000℃）にガスが接触すると、熱平衡反応によって処理物の表面に皮膜が形成されます。

・反応物質：化学反応で新しい物質を生じさせるために消費される物質
・反応ガス：膜形成時に使用される膜成分を含むガス（水素ガス、窒素ガスなど）
・反応室内：チャンバ（chamber）反応を起こさせるために密封された容器

＜メリット＞
高温処理によりPVD法に比べて複雑形状の処理物に対して均一な成膜が可能となり、密着性、つきまわり性が良い。

＜デメリット＞
高温処理による変形や寸法変化が発生することで形状の精密さを要求する部材には向いていない。

※関連文書：PVD処理とはどんな処理ですか？